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Atomic Layer Growth and Processing: Volume 222 -

Atomic Layer Growth and Processing: Volume 222

Buch | Hardcover
359 Seiten
1991
Materials Research Society (Verlag)
978-1-55899-116-3 (ISBN)
CHF 34,90 inkl. MwSt
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The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.
Featuring 46 papers from the 1991 MRS Spring Meeting (April 29 - May 3, Anaheim, California), this volume focuses on the technologically challenging field of atomic layer growth and processing. The concept of atomic layer based processing is perhaps a primary road to both the degree of control and processing uniformity for both etching and deposition that the future demands of the semiconductor industry require. Research areas covered include: mechanistic studies of atomic layer processes; characterization of atomic layer processes; III-V semiconductor studies; group IV semiconductor studies; II-VI semiconductor studies; high Tc superconductors and other materials.
Erscheint lt. Verlag 11.10.1991
Reihe/Serie MRS Proceedings
Zusatzinfo Worked examples or Exercises
Sprache englisch
Themenwelt Naturwissenschaften Physik / Astronomie Elektrodynamik
Technik Maschinenbau
ISBN-10 1-55899-116-6 / 1558991166
ISBN-13 978-1-55899-116-3 / 9781558991163
Zustand Neuware
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