Plasma Etching
Fundamentals and Applications
Seiten
1998
Oxford University Press (Verlag)
978-0-19-856287-0 (ISBN)
Oxford University Press (Verlag)
978-0-19-856287-0 (ISBN)
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
1. Introduction ; 2. RF discharges ; 3. Physical basis of plasma etching process ; 4. Diagnostics of plasma particles and potentials ; 5. Technology of reactive ion etching ; 6. Magnetic field coupled etchers ; 7. ECR plasma etchers ; 8. Future propects ; Index
| Erscheint lt. Verlag | 28.5.1998 |
|---|---|
| Reihe/Serie | Series on Semiconductor Science and Technology ; 7 |
| Zusatzinfo | 2 colour plates, 5 halftones, numerous line figures |
| Verlagsort | Oxford |
| Sprache | englisch |
| Maße | 163 x 242 mm |
| Gewicht | 743 g |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Angewandte Physik |
| Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Plasmaphysik | |
| Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik | |
| Technik ► Maschinenbau | |
| ISBN-10 | 0-19-856287-X / 019856287X |
| ISBN-13 | 978-0-19-856287-0 / 9780198562870 |
| Zustand | Neuware |
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