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5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 2000

Oy O Butsuri Gakkai (Autor)

Buch | Softcover

182 Seiten

2001
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-9651577-4-2 (ISBN)

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This text covers topics such as: CVD process damage effects; electron shading mechanism; front-end process damage effects; damage in multilevel interconnects; damage effects characterization; 300mm technology; thin dielectrics and degradation mechanisms and antenna test structures and design.

Erscheint lt. Verlag	31.1.2001
Verlagsort	Piscataway NJ
Sprache	englisch
Themenwelt	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Plasmaphysik
Themenwelt	Technik
ISBN-10	0-9651577-4-1 / 0965157741
ISBN-13	978-0-9651577-4-2 / 9780965157742
Zustand	Neuware