Grundriß Patentrecht und Gebrauchsmusterrecht
Seiten
1999
Wiley-VCH (Verlag)
978-3-527-28715-4 (ISBN)
Wiley-VCH (Verlag)
978-3-527-28715-4 (ISBN)
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Klaus Gennen, Fachanwalt für IT-Recht und Arbeitsrecht
Sprache | englisch |
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Themenwelt | Recht / Steuern ► Wirtschaftsrecht ► Urheberrecht |
Schlagworte | Gebrauchsmusterrecht • Gebrauchsmusterrecht (GebrMR) • Patentrecht • Patentrecht (PatR) |
ISBN-10 | 3-527-28715-9 / 3527287159 |
ISBN-13 | 978-3-527-28715-4 / 9783527287154 |
Zustand | Neuware |
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