Patentgesetz
Gebrauchsmustergesetz
Seiten
2006
|
10., neubearbeitete Auflage
Beck, C H (Verlag)
978-3-406-53954-1 (ISBN)
Beck, C H (Verlag)
978-3-406-53954-1 (ISBN)
- Titel erscheint in neuer Auflage
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Dieser Klassiker, dessen Neuauflage seit langem erwartet wurde, ist der führende und für die Meinungsbildung absolut unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH.
Die 10. Auflage ist eine komplette Neubearbeitung, die sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht wird. Die Autoren, überwiegend Richter, haben vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenziertes und rechtsprechungsorientiertes Bild des aktuellen Rechts- und Meinungsstandes. Die Benutzer gewinnen hieraus wertvollen Aufschluss und werden in die Lage versetzt, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Gemeinschaftspatentübereinkommen (PCT) und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Der Kommentar berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Umsetzung der EG-Biopatentrichtlinie (Biopatentgesetz) als auch bereits den jüngsten Referentenentwurf eines Gesetzes zur Reform des patentrechtlichen Einspruchsverfahrens.
Claus Dietrich Asendorf, Richter am Bundesgerichtshof; Dr. Klaus Bacher, Richter am Oberlandesgericht; Dr. Frank Peter Goebel, Vorsitzender Richter am Bundespatentgericht a.D.; Dr. Klaus Grabinski, Richter am Oberlandesgericht; Dr. Klaus-Jürgen Melullis, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof; Rüdiger Rogge, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof a.D.; Alfons Schäfers, Ministerialdirigent im BMJ a.D., Rechtsanwalt; Uwe Scharen, Richter am Bundesgerichtshof; Dr. Christof Schmidt, Richter am Landgericht; Prof. Dr. Eike Ullmann, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof.
Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
Die 10. Auflage ist eine komplette Neubearbeitung, die sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht wird. Die Autoren, überwiegend Richter, haben vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenziertes und rechtsprechungsorientiertes Bild des aktuellen Rechts- und Meinungsstandes. Die Benutzer gewinnen hieraus wertvollen Aufschluss und werden in die Lage versetzt, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Gemeinschaftspatentübereinkommen (PCT) und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Der Kommentar berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Umsetzung der EG-Biopatentrichtlinie (Biopatentgesetz) als auch bereits den jüngsten Referentenentwurf eines Gesetzes zur Reform des patentrechtlichen Einspruchsverfahrens.
Claus Dietrich Asendorf, Richter am Bundesgerichtshof; Dr. Klaus Bacher, Richter am Oberlandesgericht; Dr. Frank Peter Goebel, Vorsitzender Richter am Bundespatentgericht a.D.; Dr. Klaus Grabinski, Richter am Oberlandesgericht; Dr. Klaus-Jürgen Melullis, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof; Rüdiger Rogge, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof a.D.; Alfons Schäfers, Ministerialdirigent im BMJ a.D., Rechtsanwalt; Uwe Scharen, Richter am Bundesgerichtshof; Dr. Christof Schmidt, Richter am Landgericht; Prof. Dr. Eike Ullmann, Vorsitzender Richter am Bundesgerichtshof.
Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
Benkard
Reihe/Serie | Beck'sche Kurz-Kommentare ; 4 |
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Mitarbeit |
Anpassung von: Claus Dietrich Asendorf, Klaus Bacher, Frank Peter Goebel, Klaus Grabinski, Klaus-Jürgen Melullis, Rüdiger Rogge, Alfons Schäfers, Uwe Scharen, Christof Schmidt, Eike Ullmann |
Sprache | deutsch |
Maße | 160 x 240 mm |
Gewicht | 1710 g |
Einbandart | gebunden |
Themenwelt | Recht / Steuern ► Wirtschaftsrecht ► Urheberrecht |
Schlagworte | Gebrauchsmusterrecht • Gebrauchsmusterrecht (GebrMR) • Hardcover, Softcover / Recht/Handelsrecht, Wirtschaftsrecht • HC/Recht/Handelsrecht, Wirtschaftsrecht • Patentrecht • Patentrecht (PatR) |
ISBN-10 | 3-406-53954-8 / 3406539548 |
ISBN-13 | 978-3-406-53954-1 / 9783406539541 |
Zustand | Neuware |
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