Blick ins Buch

Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia

The Case of Sri Lanka

Nishantha Sampath Punchi Hewage (Autor)

Buch | Softcover

331 Seiten

2015
Nomos (Verlag)
978-3-8487-1885-6 (ISBN)

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Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.
Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.

Erscheint lt. Verlag	24.4.2015
Reihe/Serie	Munich Intellectual Property Law Center – MIPLC ; 26
Sprache	englisch
Maße	153 x 227 mm
Gewicht	495 g
Themenwelt	Recht / Steuern ► Wirtschaftsrecht ► Urheberrecht
Schlagworte	Gewerblicher Rechtsschutz • Innovation (Wirtschaft) • Kleine und mittelständische Unternehmen (KMU) • Markenrecht • Sri Lanka / Ceylon; Recht • Sri Lanka / Ceylon; Wirtschaft • Sri Lanka; Recht • Sri Lanka; Wirtschaft • Urheberrecht / Gewerblicher Rechtsschutz und Medie • Urheberrecht / Gewerblicher Rechtsschutz und Medienrecht • Wirtschaftsförderung
ISBN-10	3-8487-1885-5 / 3848718855
ISBN-13	978-3-8487-1885-6 / 9783848718856
Zustand	Neuware