Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz
Beck, C H (Verlag)
978-3-406-62073-7 (ISBN)
- Titel erscheint in neuer Auflage
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Der Kompakte mit dem großen Überblick zum Patentrecht und zum Gebrauchsmusterrecht.
Der "Mes"
verbindet das mit dem eng verwandten. Der Kommentar orientiert sich vor allem an der Rechtsprechung der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH sowie ggf. an der Entscheidungspraxis des EPA und des EuGH. Besonders vorteilhaft: die Bezüge zum EPÜ, zum Gemeinschaftspatent, zum PCT und zum TRIPS sind eingehend berücksichtigt.
Die Neuauflage des "Mes"
verarbeitet zahlreiche Änderungen, darunter
- das Gesetz zur Verbesserung der Durchsetzung von Rechten des geistigen Eigentums
- das FGG-ReformG und
- das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts.
Die stark erweiterten Erläuterungen berücksichtigen wegweisende neue Entscheidungen des BGH sowie aktuelle Diskussionen, etwa zum Rechtsschutz für computerimplementierte Erfindungen oder zur Patentierbarkeit biotechnologischer Erfindungen (Vorlagebeschluss des BGH an den EuGH zur Definition menschlicher Embryonen in der BiopatentRL).
RA Prof. Dr. Peter Mes ist als Herausgeber und Autor zahlreicher Publikationen besonders auf dem Gebiet des Gewerblichen Rechtsschutzes hervorgetreten und als führender Experte ausgewiesen.
"(...) Der Kommentar orientiert sich vor allem an der Rechtsprechung der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH sowie an der Entscheidungspraxis des EPA und des EuGH. Besonders vorteilhaft: die Bezüge zum EPÜ, zum Gemeinschaftspatent, zum PCT und zum TRIPS sind eingehend berücksichtigt. Die Neuauflage verarbeitet zahlreiche Änderungen, darunter das Gesetz zur Verbesserung der Durchsetzung von Rechten des geistigen Eigentums, das FGG-Reform-gesetz und das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts."
in: GRUR; Deutsche Vereinigung für gewerblichen Rechtsschutz und Urheberrecht e.V. 10/2011, zur 3. Auflage 2011
Expertenstimme von Patentanwalt bei DTS Patent- und Rechtsanwälte Sven-Erik Braitmayer, zur 3. Auflage:
Der Kompakte für das Patent- und Gebrauchsmustergesetz
"Seit der Vorauflage ist zwar nicht so viel Zeit wie zwischen jener und der 1. Auflage vergangen, aber in den immerhin sechs Jahren hat sich viel getan. Dies spiegelt sich in der Steigerung des Umfangs um 45% auf jetzt stolze 1.474 Seiten wider. Knapp 400 Seiten mehr (die Vorauflage hatte 718 Seiten) bei der Kommentierung des PatG ist beachtlich. Die Kommentierung zum 9. Abschnitt „Rechtsverletzung“ (§§ 139-142b) mit signifikanter Steigerung auf knapp 200 Seiten ist das Prunkstück des Kommentars – wie sich dies für den Autor als ausgewiesenen Fachmann für das Patentverletzungsverfahren ziemt.
Bei den geringen Halbwertszeiten von Gesetzes-/Verordnungstexten sollte der Leser immer noch überprüfen, wie die aktuelle Fassung lautet. Leider ist in § 123a Abs. 3 PatG die Ergänzung, dass auch für die versäumte Frist zur Zahlung der Weiterbehandlungsgebühr keine Wiedereinsetzung statthaft ist, nicht berücksichtigt. Dies führt in der Kommentierung zur Behauptung, dass hier die Wiedereinsetzung möglich sei (Rn.12).
Die Kommentierung zum Gebrauchsmustergesetz ist nicht signifikant erweitert worden und bleibt somit sehr kompakt. Sie dient zum Einstieg, sollte bei vertieft benötigter Information aber durch Studium eines weiteren einschlägigen Standardkommentars ergänzt werden.
Der Autor bezieht eindeutig Stellung, ohne herum zu lavieren, was beim zu Eigen machen von Mindermeinungen problematisch ist, wie z.B. dem Beitritt als Nebenintervenient auf Seiten des Einsprechenden (§ 59 Rn. 19) oder der vermeintlichen Bindung des DPMA/BPatG an den Antrag des Einsprechenden (§ 59 Rn. 94). Hier sei auch noch auf die Würdigung der „Demonstrationsschrank“-Entscheidung des BGH (GbmG § 1 Rn. 12 ff.) hingewiesen: Der Autor hat die volle Zustimmung des Rezensenten, dass der „erfinderische Schritt“ (von Gesetzes wegen) unterhalb der „erfinderischen Tätigkeit“ anzusiedeln sein müsste. Da der BGH und auch das BPatG, das in der Vorinstanz den „Demonstrationsschrank“ gleich wie der BGH danach entschieden hatte, von ihrer Auffassung in absehbarer Zeit nicht abrücken werden, muss schon aus pragmatischen Gründen die gleiche „Schutzschwelle“ angesetzt werden – die Ausführungen zu GbmG § 1 Rn. 12-17 sind deshalb (und nur deshalb) mit Vorsicht zu „genießen“.
Der Kommentar gehört in jeden Bücherschrank eines Patent- und Rechtsanwalts – insbesondere desjenigen, der sich mit der Patentverletzung beschäftigt – zur Ergänzung und für den schnellen Zugriff auf Informationen. Für den Rechtsverletzungsabschnitt ist er so aktuell und umfassend wie keiner der Standardkommentare."
"(...) Das Werk ist übersichtlich und die Kommentierung gemäß einer juristischen Vorgehensweise bei der Erfassung von Lebenssachverhalten gegliedert. Dieser Aufbau macht das Werk auch gerade für Anfänger auf diesem Gebiet, insbesondere Patentanwaltskandidaten, interessant, die sich in die juristische Denkweise einarbeiten müssen.
(...) Der Mes hat daher seinen Platz unter den führenden deutschen Patentrechtskommentaren gefunden. Er ist der Einzige, der den gesamten Stoff unter prozess- und verfahrensrechtlichen Gesichtpunkten für den Praktiker knapp und dennoch vollständig zusammenfasst und aufbereitet. Er gehört somit in jede Kanzlei und in die Handbibliothek eines jeden Anwalts. Der Mes ist insbesondere denjenigen zu empfehlen, die nur gelegentlich mit technischen Schutzrechten in Berührung kommen und ein fundiertes, jedoch aktuelles und verständliches Buch zum Patent- und Gebrauchsmustergesetz suchen. Für alle Praktiker, ob Rechtsanwalt oder Patentanwalt, die regelmäßig mit Patent- und Gebrauchsmustersachen befasst sind, ist der Mes ohnehin ein Muss. Mit seiner zweiten Auflage gehört der Mes zu den Standardwerken des deutschen Patentrechts."
Alexander Straus, in: GRUR Int., Heft 7/2007, zur 2. Auflage 2005
"(...) Insgesamt ist das Werk ein nützliches Arbeitsmittel rund um den Patentverletzungsprozess."
RA Peter v. Czettritz, Harms & Melzer, München, in: Pharma Recht, 02/2007, zur 2. Auflage 2005
„Peter Mes, einer der führenden deutschen Rechtsanwälte im Patentbereich, hat die Voraufl grundlegend neu bearbeitet. Er verschafft dem Leser einen überaus übersichtlichen und damit raschen Zugang zu patentrechtlichen Lösungen. Dabei berücksichtigt er die deutsche Rsp, insb auch die der Patentverletzungsinstanzgerichte.
Zahlreiche Hinweise auf Zusammenhänge der Vorschriften des dPatG mit anderen Vorschriften – insb dem EPÜ – erleichtern dem österr Interessenten die Arbeit mit diesem Kommentar, der trotz seines – relativ – geringen Umfangs Antwort auf alle patentrechtlichen Fragen gibt. Auch für den am Patentrecht interessierten österr Juristen ist das Werk von Mes überaus hilfreich.“
Lothar Wiltschek, in: Österreichische Blätter für gewerblichen Rechtsschutz, 04/2006, zur 2. Auflage 2005
„(…) Der auch in der 2. Auflage rundum gelungene „Mes“ lässt sich – eine Anleihe aus der WRP – mit dem Schlagwort „Aus der Praxis – Für die Praxis“ qualifizieren. Er gehört nicht nur zum ständigen Rüstzeug des regelmäßig mit Patentsachen Befassten, sondern verschafft auch demjenigen, der nur gelegentlich mit patentrechtlichen Fragen zu tun hat, einen schnellen, verständlichen Überblick über die gegenwärtige Rechtslage. Er sollte in der Ausstattung keines wirtschaftsrechtlich orientierten Anwaltsbüros und keiner Patent- oder Rechtsabteilung eines Unternehmens fehlen.“
RA Dr. Michael Nieder, in: Neue Juristische Wochenschrift, 30/2006, zur 2. Auflage 2005
„(...) Das Werk lebt von der umfangreichen praktischen Erfahrung seines Autors, vor allem vor den Düsseldorfer Gerichten. Das Werk enthält, was der Suchende in anderen Kommentaren in der Regel selten finden wird, zahlreiche Formulierungsvorschläge, beispielsweise für die bei Patentverletzungsprozessen nicht einfachen Anträge bzw. Tenorierungen. Wertvoll sind auch die zahlreichen Verweise auf die instanzgerichtliche Rechtssprechung. Trotz der Einarbeitung weiteren Materials hat der Kommentar seinen Charakter als Taschenkommentar nicht eingebüßt. Praktiker tun insofern gut daran, wenn sie den Mes bei der Anreise zu einer Verhandlung in Düsseldorf mit in die Aktentasche packen. Kurzfristig auftretende Fragen können so noch geklärt werden. Darüber hinaus sollte das Buch von jedem Patentanwaltskandidaten mindestens einmal durchgearbeitet werden.“
Patentanwalt Dr. Albrecht Rau, in: Mitteilungen der dt. Patentanwälte, zur 2. Auflage 2005
„(...) Angesichts der (zu wünschenden) Entwicklung Deutschlands zu einer „Intellectual Property Economy“ wird fast jeder zivilrechtlich arbeitende Rechtsanwalt früher oder später von seinen Mandanten Fragen zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht gestellt bekommen. Solchen Praktikern, die nur gelegentlich mit technischen Schutzrechten in Berührung kommen und ein fundiertes, aber aktuelles und verständliches Buch zum Patent- und Gebrauchsmustergesetz suchen, ist der „Mes“ zu empfehlen. Für alle, die regelmäßig mit Patent- und Gebrauchsmustersachen befasst sind, sollte es ohnehin selbstverständlich sein, die Darstellung und Argumentation aus dem „Mes“ nicht unberücksichtigt zu lassen. Mit seiner zweiten Auflage gehört der „Mes“ zu den Standardwerken im deutschen Patentrecht.“
Dr. Michael Schaeffer, Rechtsanwalt, Hamburg, in: GRUR, Heft 12 / 2005, zur 2. Auflage
| Reihe/Serie | Gelbe Erläuterungsbücher |
|---|---|
| Mitarbeit |
Anpassung von: Peter Mes |
| Sprache | deutsch |
| Maße | 128 x 194 mm |
| Gewicht | 1013 g |
| Einbandart | gebunden |
| Themenwelt | Recht / Steuern ► Wirtschaftsrecht |
| Schlagworte | Gebrauchsmusterrecht • Gebrauchsmusterrecht (GebrMR) • Patentrecht • Patentrecht (PatR) |
| ISBN-10 | 3-406-62073-6 / 3406620736 |
| ISBN-13 | 978-3-406-62073-7 / 9783406620737 |
| Zustand | Neuware |
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