Glow-Discharge Hydrogenated Amorphous Silicon
Seiten
1989
Springer (Verlag)
978-0-7923-0309-1 (ISBN)
Springer (Verlag)
978-0-7923-0309-1 (ISBN)
A graduate-level description of recent Japanese research on the chemistry of amorphous silicon film deposition associated with plasma CVD, a step in producing amorphous semiconductors. Reports on studies (of microscopic processes of gas-phase reaction as well as chemical reactions on the film growin
| Erscheint lt. Verlag | 30.11.1989 |
|---|---|
| Reihe/Serie | Advances in Solid State Technology ; 4 |
| Zusatzinfo | X, 277 p. |
| Verlagsort | Dordrecht |
| Sprache | englisch |
| Maße | 156 x 234 mm |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Atom- / Kern- / Molekularphysik |
| Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik | |
| Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Thermodynamik | |
| ISBN-10 | 0-7923-0309-1 / 0792303091 |
| ISBN-13 | 978-0-7923-0309-1 / 9780792303091 |
| Zustand | Neuware |
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