1999 4th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
1999
|
1999, 4th ed.
I.E.E.E.Press (Hersteller)
978-0-7803-5189-9 (ISBN)
I.E.E.E.Press (Hersteller)
978-0-7803-5189-9 (ISBN)
- Titel ist leider vergriffen;
keine Neuauflage - Artikel merken
This microfiche constitutes the proceedings from the International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, which took place in 1999. Topics covered include plasma equipment, electron shading, device characterization and backend process integration.
| Erscheint lt. Verlag | 30.9.1999 |
|---|---|
| Verlagsort | Piscataway NJ |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Plasmaphysik |
| ISBN-10 | 0-7803-5189-4 / 0780351894 |
| ISBN-13 | 978-0-7803-5189-9 / 9780780351899 |
| Zustand | Neuware |
| Haben Sie eine Frage zum Produkt? |
